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특허청, 디자인 창작 및 보호 환경조성 위해 소통의 장 마련

[중앙뉴스라인, 장성대기자] 특허청은 '2022년 한·중·일 디자인포럼'을 8월 1일 오후 2시부터 온라인으로 개최한다고 밝혔다.

올해 11회째를 맞이하는 이번 포럼은 ‘국제경제 확장 및 웹 3.0시대에서의 디자인 보호’를 주제로 개최된다.

이번 포럼에서는 헤이그 협정(‘22.5.5)으로 중국이 국제디자인출원제도에 합류함에 따라, 3국(한·중·일)에 디자인 동시 출원 시 알아두어야 할 각국 디자인 제도와 심사 실무를 공유한다.

또한, 한·중·일 산업계 연사를 초청하여 확장 가상 세계(메타버스)나 대체 불가능한 토큰(NFT) 등 신기술과 디자인, 웹 3.0시대에 대응하는 업계 동향 등을 다룰 예정이다.

온라인 포럼은 관련 링크에서 사전신청을 통해 누구나 참석 가능하며, 한국·중국·일본어가 동시통역으로 제공된다.

특허청 목성호 상표디자인심사국장은 “최근 중국·일본의 디자인 관련 법·제도 및 산업계 동향을 파악할 수 있는 좋은 기회이므로, 관심 있는 분들의 많은 참여를 바란다”고 말했다.

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